宮川翔貴, 福原吉博, 成田史弥, 小形憲弘, 森島繁生
階層型マーカを用いた自己遮蔽に頑健なリテクスチャリング
The 20th Meeting on Image Recognition and Understanding
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テクスチャリングとは，マーカが印刷された物体表面をカメラで撮影し，画像内のマーカ領域に対してテクスチャ座標を推定することでテクスチャを入れ替える手法である．従来では，局所的に存在するマーカの色を参照することで各マーカの識別を行った．しかし，自己遮蔽下では一部のマーカが隠れて位置関係がずれてしまうため，本来のものと異なるマーカが参照されてしまう．その結果，自己遮蔽の境界付近におけるマーカの識別に失敗してしまい，テクスチャ座標が取得できない，あるいは誤ったテクスチャ座標を取得してしまう．これにより，自己遮蔽による変形がテクスチャに正確に反映されなくなる．そこで本研究では，自己遮蔽下でも識別することが可能な階層型マーカをデザインし，自己遮蔽による変形が十分に反映されたリテクスチャリングを行うことを目的とする．
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